活動內容介紹
展期: 108年3月9日至108年6月16日
藝術家座談會：108年3月9日 10:00-17:00
開幕式：108年3月10日 15:30
展覽地點：國美館202展覽室
展覽介紹
「後數位人類紀－國際科技藝術展」主要結合當代相當重要的兩個概念。其中，「後數位」所指涉的是在一個人類與數位科技間關係快速變遷下的藝術創作，以及藝術如何更關切人類的生存實際景況；而「人類紀」實際上則是一個產生著大規模的「熵」的時期、一個普遍「人類化」的世界，其論述更揭示了對科技盲目樂觀主義的憂慮，與對唯一確定性的拒絕。
本展以「後數位人類紀」為核心命題，與西班牙馬德里現代數位科技影音藝術節合作，邀請來自臺灣與西班牙兩國新世代的藝術創作者，以科技藝術為創作實踐的策略，展現藝術家對當代數位世代中人文意識的深刻觀察。「後數位人類紀」中展出作品的共同性正是表述著在整體生活世界的機械圖像中，「人—自然—科技」的體現關係如何展現出藝術創作的對象已不僅是純粹的物質符號再現，更是整體化的過程，一種特定的生成態度。這個彼此重複著某個層次內涵的混雜性，漸進地凸顯人之個體化與生活世界乃是一個趨勢、一種流動、一個過程，層層交疊，使致「時間空間化」。
受邀的十二位藝術家從個體自身存有的角度出發談論生活景況、探究自身與外在環境的諸多議題是藝術家與生俱來的關切焦點。另一方面，觀眾參與作品其中，更是建立了肉身性與知覺世界的體現關係，這不僅意味著一種認識世界的方式，更揭示了對世界的獨特理解。具體而言，本展提供一個處於當下的圖像視野，從自然之物、數位媒體到虛擬科技之「不全然斷裂」的演進中，提供觀者比較觀展、參與到操演的多層次空間意象，並從圖像文本、機械裝置，到超文本的擬像行為間的轉化與差異。參展藝術家們如何利用裝置、媒體與科技創造了充滿媒介性元素的藝術場域。透過表意自然物的人造裝置、統整感官知覺的影像裝置，以及彰顯體現關係的虛擬科技，標誌著後數位人類紀的世界圖像。
策展人
邱誌勇 Chih-Yung CHIU
尤里・勒赫 Iury LECH
參展藝術家
王新仁 Aluan WANG
安娜・馬科斯 ＋ 阿方索・比利亞努埃瓦 Ana MARCOS ＋ Alfonso VILLANUEVA
江振維 Chen-Wei CHIANG
戴維・羅德里格斯・希梅諾 David RODRÍGUEZ GIMENO
歐亨尼奧・安普迪亞 Eugenio AMPUDIA
動態自造實驗室 FabLab Dynamic
尤里・勒赫 Iury LECH
胡安・卡洛斯・桑切斯・杜克 Juan Carlos SÁNCHEZ DUQUE
涅維斯・德・拉・富恩特 Nieves DE LA FUENTE
李炳曄 Ping-Yeh LI
王聖傑 Sheng-Chieh WANG
林書瑜 Shu-Yu LIN
＊依名字字母順序排列